(株)TRinno Technology
引领 功率半导体技术的企业
单位工艺服务
TRinno Technology自身就拥有功率半导体工艺技术中称为 state of the art process的“超薄膜晶圆加工技术”,在首尔孔陵洞拥有以6英寸的晶圆为基准,可以进行60~100μm 水平的 wafer thinning process设备和工厂。
本工厂不仅可以进行专为 wafer thinning process的 backside grinding,而且还可以进行 ion implantation、metallization 及 wafer level test 等多种工艺,最近还可以应用为体现功率半导体的技术。 按照客户的要求,TRinno Technology 提供以下单位工艺服务。
单位工程